植物成長活性技術

 植物の成長を促進させ、収穫量及び早期収穫を促す為には、肥料を与え栄養が不足しないようにするなど、環境を常に最適な状態に維持することが必要となりますが、人為的に光合成を増進させることで、手間を最小限に抑え、植物の成長を促進させる技術です。

一般的な植物成長活性

 植物に低周波の刺激を与えると、その植物の光合成活性が増進することは良く知られています。植物に与える刺激の周波数は1000Hz以下の低周波数が良いとされていますが、特に40Hz以下が望ましいとされております。与える刺激の種類は、光・磁力・電気・音・物理的な力などが例示されています。

(1)光
 光刺激の付与方法は特に限定されず、例えば一定周期もしくは不定期で点滅する光を植物に照射すれば良い。使用する光源はストロボ光で良いが、白熱電球やLED単色光や混合光などを用いても良い。光の波長は可視光のほか、紫外光や赤外光も含む。可視光はどのようなものでも良いが、赤色や黄色の光の方が好ましい。光の強さは特に限定されないが、0.01〜500μmol/m2/s程度が望ましい。光の照射部位は通常地上部であるが、養液栽培においては、植物体の地上部だけではなく、地下部に照射しても良い。

(2)磁力
 磁力刺激の付与方法も特に限定されず、例えば植物に永久磁石を近づけたり遠ざけたりして、機械的に作用させてもよく、また植物の近くに設置した誘導コイルあるいは線状の導線に、間断あるいは強弱をつけた電流を通電して磁界を発生させても良い。この時に用いる電流はサイン波でもデジタル波でも矩形波でも良い。またデューティ比は1:1000〜1000:1で構わない。
 磁力刺激を付与する部位は、根部が望ましいが、地上部でも構わない。また養液栽培においては、培養液に刺激を付与しても良い。作用させる刺激の強さは、0.01〜1000ミリガウスの範囲でよいが、1〜20ミリガウスとした方が効率が高い。

(3)電気
 電気刺激の付与方法も特に限定されず、例えば植物の茎葉に電極を接着したり、植物周辺の土壌中に電極を埋め、電流を間断したり、あるいは交流電流を流したり、または培養液の入った栽培ベット内に電極を設置し、そこに間断した電流や交流電流を流したりしても良い。
 電気刺激を与える部位は、植物体地上部でも良いが、養液栽培の場合には、栽培ベット内に電極を設置すれば、根部だけでなく培養液もイオンが活性化されるなどの影響を受けるので都合が良い。対になる電極は白金・銅・銀・ステンレス・スチール・炭素棒・伝導性プラスチックなどが適しており、両端の電圧は0.01V〜60Vが好ましい。波形は矩形波・サイン波・デジタル波を問わず、デューティ比は1:1000〜1000:1の範囲で良い。

(4)音
 音刺激の付与方法も特に限定されず、例えば特定周波数の音を発するスピーカーなどの装置を植物体の近くに設置することにより、音刺激を付与することが出来る。植物に付与する位置は地上部が好ましいが、地下部でも良い。音刺激の強さは、0.01db〜100dbで良いが、1〜30dbが望ましい。

(5)物理的な力
 物理的な力の付与方法も特に限定されず、例えば栽培ベットにセラミックスピーカーを取り付け、振動を発生させることにより、物理的な力による刺激を付与出来る。波形は矩形波・サイン波・デジタル波を問わず、デューティ比は1:1000〜1000:1の範囲で良い。振動の強さは特に限定されないが、0.01db〜100dbが好ましい。

(参考)デューティ比
 デューティ比とは、周期的な現象において、"ある期間" に占める "その期間で現象が継続される期間" の割合である。電気通信や電子工学で使われる。
デューティ比 D =方形波のパルス幅 (τ) /周期 (T) で定義される。
例えば、理想的なパルス列(方形波のパルス)では、パルス幅をパルス周期で割ったものがデューティ比である。パルス幅が1μsでパルス周期が4μsの場合、デューティ比は0.25である。矩形波ではデューティ比は0.5または50%である。

出所:Wikipedia

ZIMAを利用した植物成長活性

 今までの植物に低周波の刺激を与える方法は、電気エネルギーによるものであり、電気設備の無い場所や広大な面積へのアプローチには適していません。こうした欠点を解決する為に、圧電素子と複合鉱石から作られたメッシュ状のZIMAを植物の近くに埋め込み刺激源とし、植物の成長活性を高めることが出来ます。以下はアルミメッシュに複合鉱石をコーティングしたZIMAを使った、大根の成長促進試験の記録です。

大根植物成長活性 大根植物成長活性